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                產(chǎn)品中心

                Product

                當(dāng)前位置:首頁(yè)  /  產(chǎn)品中心  /    /    /  槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備

                槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備

                簡(jiǎn)要描述:v應(yīng)用領(lǐng)域:RCA清洗

                基礎(chǔ)信息

                產(chǎn)品型號(hào)

                廠商性質(zhì)

                代理商

                更新時(shí)間

                2024-10-22

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                詳細(xì)介紹

                v 應(yīng)用領(lǐng)域:RCA清洗,濕法去膠,介質(zhì)層濕法刻蝕,金屬層濕法刻蝕,爐管前清洗等

                v 晶圓尺寸:100mm~300mm

                v 設(shè)備配置:

                ? 支持化學(xué)液C.C.S.S.、L.C.S.S

                ? Marangoni dry spin dry

                ? 自動(dòng)換酸,自動(dòng)補(bǔ)液、配液

                ? 加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等

                ? 槽體過(guò)溫保護(hù),各單元配置漏液傳感器

                ? 支持化學(xué)液回收

                ? 全面支持SECS/GEM通訊協(xié)議

                v 工藝指標(biāo):蝕刻非均勻性片內(nèi):4%;片間:≤4%;批次間: ≤4%;

                v 顆粒控制:增加值<30@0.09μm(帶氧化硅膜測(cè)試,來(lái)料顆粒<50顆)

                v 金屬離子:<5E9 atoms/cm2


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