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                磁控濺射鍍膜機Sputter

                簡要描述:v應(yīng)用領(lǐng)域:巨磁電阻(GMR)、組合材料科學(xué)(CMS)、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級器件、光子學(xué)、光伏(PV)、OLED(發(fā)光二極管)、有機薄膜v樣品尺寸:8英寸v濺射源:強磁靶、永磁靶

                基礎(chǔ)信息

                產(chǎn)品型號

                廠商性質(zhì)

                代理商

                更新時間

                2024-10-22

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                詳細介紹

                v 應(yīng)用領(lǐng)域:巨磁電阻(GMR)、組合材料科學(xué)(CMS)、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級器件、光子學(xué)、光伏(PV)、OLED(發(fā)光二極管)、有機薄膜

                v 樣品尺寸:8英寸

                v 濺射源:強磁靶、永磁靶,數(shù)量根據(jù)用戶定制

                v 電源:直流電源、射頻電壓

                v 真空系統(tǒng):超高真空

                v 樣品臺加熱:至1100℃

                v 控制系統(tǒng):全自動控制

                v 進樣室:根據(jù)用戶需求定制


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