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                產(chǎn)品中心

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                有掩膜光刻機(jī)

                簡(jiǎn)要描述:v手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)v高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻

                基礎(chǔ)信息

                產(chǎn)品型號(hào)

                廠商性質(zhì)

                代理商

                更新時(shí)間

                2024-10-22

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                v 手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)

                v 高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,特征尺寸優(yōu)于0.5微米

                v 基片尺寸可滿(mǎn)足4、6、8、12英寸

                v 經(jīng)過(guò)特殊設(shè)計(jì),方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料,包括砷化鎵和磷化銦

                v 設(shè)備可通過(guò)選配升級(jí)套件,實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻


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