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                產(chǎn)品中心

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                深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH

                簡要描述:v應(yīng)用方向:提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS

                基礎(chǔ)信息

                產(chǎn)品型號

                廠商性質(zhì)

                代理商

                更新時間

                2024-10-22

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                詳細(xì)介紹

                v 應(yīng)用方向:提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS,封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)

                v 產(chǎn)品特點(diǎn):

                ? 光滑側(cè)壁工藝

                ? 高刻蝕速率腔刻蝕

                ? 高深寬比工藝

                ? 錐形通孔刻蝕

                ? 機(jī)械或靜電壓盤,加熱內(nèi)襯         

                ? 延長了兩次清洗間的平均時間間隔(MTBC環(huán)形激光陀螺反射鏡

                ? X射線光學(xué)系統(tǒng)

                ? 紅外(IR)傳感器

                ? II-VI族材料,通信濾波器

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